第一二零三章 500nm光刻机研制成功 (第2/3页)
工艺和500nm制程工艺的193nmArF准分子激光器，按照双方当初签订的公司发明专利转让协定，这些准分子激光器只能在BSEC光刻机上使用。
1995年7月，钱富强晋升研究员，担任光刻机光源研究所所长。
邓国辉院长主持BSEC光刻机研究院的全盘工作。
BSEC能生产8英寸晶圆、500nm制程工艺的光刻机，虽然离G制程工艺的光刻机，还差350nm、250nm和180nm三道关口，但这一步跨出去是多么的不易？
不亲自参与其中，不知道研发过程中的艰难！
BSE制程工艺的半导体生产线只是时间问题。
从1996年6月开始，BSEC投资8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机，一晃就过去了18个月，由邓国辉、欧阳明、陈伟长和夏季常等四位院士主持的这项系统性的研发工程终成正果。
光刻机自动化研究所早就准备好了满足500nm制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统，这套系统是GCA1995年在BSEC提供的公司发明专利基础上研发成功的，专利属于BSEC。
夏季常院士带领研究所科研人员又研制一遍，性能更加完善！又研制了一遍满足350nm（也是GCA研发成功）制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统。
1996年5月，夏季常院士带领光刻机自动化研究所率先研制成功满足250nm制程工艺光刻机所需要的磁悬浮式双工作台系统。
BSEC光刻机公司如今能生产能满足各种制程工艺光刻机的磁悬浮式双工作台系统，订单生产。
磁悬浮式双工作台系统如今还是全球唯一的双工作台系统，这也是孙健的功劳。
讲求效益的美国人也信奉造不如买，从不担心被人卡脖子！
像GCA和ASML等五成的光刻机公司选择BSEC生产的磁悬浮式双工作台系统，像Nikon和等五成的光刻机公司购买BSEC的公司发明专利，自己组织生产。
避免浪费宝贵的人力和资金，在孙健的指示下，GCA光刻机半导体研究院从1996年6月开始，停止研发和生产磁悬浮
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