713 搞出光刻机，挺直腰杆子（4k） (第2/3页)
“你看你，又急。”
陆飞挑了挑眉，倍感意外，这么凑巧！
EUV光刻机的出现，相当于光刻机技术和设备正式发展到第五代，遥遥领先于他们。
第一代光刻机是以436nm的g-line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程。
之后出现了365nm的i-line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350到500nm。
这两代都只能算是接近式光刻机，到了第三代扫描投影式光刻机，才实现了跨越式的突破，把最小工艺推进至150到250nm。
他们生产的65nmArF干式光刻机，算是第四代，也就是步进式投影式光刻机，制程工艺最高可以推进到65nm，想要更上一层——
就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。
本来，逻辑跟ASML这些国际一线的光刻机厂商，就只剩ArFi这么个半代差距。
但EUV光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少1.5代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。
“不是我急，陆总，一旦EUV预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出三五年，就能得到EUV光刻机的生产线……”
尹志尧话里无不透着焦虑。
“尹教授，这台EUV，ASML、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。
“从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”
梁孟松站出来回答。
“对嘛，这不就结了。”
陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“EUV集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”
“陆总说的没毛病！”
孙红军机敏地当捧哏。
“咱们研究起步晚，技术经验积累少，人才还不够不精，再加上特么的技术封锁，能在这么短的时间，攻克65nmArF干式光刻机，就已经很不正常了，再快就该拍科幻片了。”
陆飞笑道：“落后不可怕，可怕的是不追赶，你看我们现在，已经步入正轨了。”
“可不是嘛，快赶上小霓虹了！”
孙红军嘿然一笑。
就像霓虹在新能源上梭哈错了氢能，在光刻机路线上，不去梭哈湿刻法，而是全力押注干刻法，却失败了，白白耗费人力财力时间。
今后，逻辑的光刻机就可以跟尼康、佳能竞争低端光刻机市场，先干翻了小霓虹！
“所以啊，尹教授，我知道你很急，但你先别急，ArFi会有的，EUV也会有的！”
陆飞环顾四周，激励士气。
“陆总！”
尹志尧郑重地点了下头，他作为中微半导体的领军人，非常清楚逻辑是两条腿走路，既跟微电子为首的单位合作ArFi光刻机，又跟长春光机为主的科研所研究EUV光刻机。
而且满世界找帮手，比如徕卡。
“老孙，这次的奖励方案做出来了嘛？”
陆飞侧目望向孙红军。
“已经拟出个初步方案，就等您来定。”
孙红军应了一声。
“嗯，但凡这次参与光刻机项目的，哪怕是拧了个螺丝的，也要多发奖金！”
陆飞双手叉腰，“65nm有了，还怕没有ArFi？没有EUV？接下来我们就向32nm、28nm，甚至28nm以下的发起冲击，不管是10年、20年，还是多长时间，也要搞出来！把这颗工业明珠给我摘下来，当弹珠卖！”
“我就是怕耽误了先进制程工艺的进程，毕竟我们买不到最先进的DUV光刻机。”
尹志尧脸上露出一丝愧疚。
“梁博士，你的意思呢？”
陆飞把目光投向梁孟松。
“陆总放心，难度肯定是有的，但我可以保证，32nm，今年下半年就能风险性试产。”
梁孟松话锋一转，说出难题。
芯片代工制造的过程非常复杂，需要多方面的技术和设备支持，就像14nm是个关键的分界线，28nm也是个关键的分界线。
但设备还不是他最担心的，他最担心的是中芯被台积电打倒之后，下一个就轮到逻辑。
“这种情况我不是没有考虑。”
陆飞摆了摆手：“所以才把逻辑、澎拜的三分之一的产能放在台积电，就是让章忠谋顾虑，既想对付我们，又怕失去我们的订单。”
“可按我对章忠谋的了解，肯定不会善罢甘休。”梁孟松忧心道，“另外还有三星……”
陆飞笑道：“梁博士，三星现在的
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